晶圆计量系统Xhemis EX-2000

XRR和XRF计量工具用于毛毯晶状体的毛毯厚度，密度，密度，粗糙度和薄膜上的薄膜组成，这种多功能的X射线计量工具使用X射线荧光（XRF）和X射线反射率（XRR）用于高 -从超薄单层膜到多层堆栈的覆盖晶片的厚度和密度的吞吐量无损测量，以进行过程开发和膜质量控制。专为大批量制造Xhemis EX-2000设计的设计专为高达200毫米晶片的高量制造而设计。在测量之前出色的阶段对准可以快速准确地测量各种晶圆样品。高度准确的舞台控制可以在短时间内进行全面映射测量。Xhemis ex-2000可以自动处理晶圆机时，用户友好设计的工具可以自动处理。AutoCal（自动校准功能）保持恒定的工具条件。用户友好的软件使工具操作和数据分析变得容易。该工具可用于从研究到生产进行质量控制的各种应用。广泛的材料和应用同时评估薄膜厚度，密度和粗糙度高通量晶片测量值的绝对是由XRR（无需校准标准）产生的全磁图映射和高速测量，XRF高分辨率和精确度覆盖了从Ångstroms到Ångstroms到Ångstroms到Ångstroms的厚度微米接受200毫米，150毫米，125毫米和100毫米晶片可用的自动校准功能